В методических указаниях даны рекоменда­ции по разработке конструкции и технологии из­готовления микросхем и микроэлектронных уст­ройств. Приведены методики расчёта технологи­ческих параметров изготовления локальных леги­рованных областей, формируемых в кремнии ме­тодами термической диффузии и ионной имплан­тации. Даны рекомендации по разработке техно­логических процессов изготовления микроэлек­тронных изделий. Определены объём, состав и порядок выполнения курсового проекта.

Методические указания содержат 11 таблиц и библиографический список из 13 наименований.