В методических указаниях даны рекомендации по разработке конструкции и технологии изготовления микросхем и микроэлектронных устройств. Приведены методики расчёта технологических параметров изготовления локальных легированных областей, формируемых в кремнии методами термической диффузии и ионной имплантации. Даны рекомендации по разработке технологических процессов изготовления микроэлектронных изделий. Определены объём, состав и порядок выполнения курсового проекта.
Методические указания содержат 11 таблиц и библиографический список из 13 наименований.